「中華民國國際版畫雙年展」自1983年（民國72年）開辦以來賡續耕耘，迄今已是第19屆，量現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一。此雙年展辦理的宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展，以不限主題方式徵件，希冀藝術家自身的符號轉譯文化脈絡、自我洞察、個人經驗或對社會時事的省思與辯證，自由探索題材的可能性。本屆歷屆徵件受到全球版畫工作者熱烈的迴響與肯定，亦挖掘出無數優秀的版畫家與藝壇新秀。「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」共有來自80個國家1220位藝術家報名參賽，歷經初審及複審，選出共計40國164件作品，其中包含金、銀、銅牌獎名1名、評審團特別獎2名、優選5名、佳作5名的得獎作品。15件得獎作品中，除了臺灣的藝術家外，亦有來自日本、泰國、印度、馬來西亞等亞洲國家；來自波蘭、塞爾維亞等歐洲國家；以及來自阿根廷及哥倫比亞等南美洲國家的藝術家，銘刻不同文化脈絡下多元風貌的創作能量。本屆作品在主題、技法皆豐富而多樣，傳統與創新的創作技巧兼容並蓄，主題的取材亦涵蓋廣泛議題，諸如對生態環境、社會脈動的反思與關懷，個人精神世界的表達及探索，對時空或本質問題的省思及叩問，呈現藝術家們多元詮釋視角下，創造性語彙融合個人感悟的洞察力與內涵。

主標：中華民國第十九屆國際版畫雙年展

展覽時間：2020/07/04~09/27

展覽地點：國立臺灣美術館

尺寸：長75.2公分、寬52公分，厚度0.18公釐