「中華民國國際版畫雙年展」從1983年(民國72年)創辦以來,持續引介國際間多元的藝術創作理念,獲得國內外藝術界與大眾的重視與肯定。今年舉辦的「中華民國第十四屆國際版畫雙年展」共收到來自69國、1423件作品,顯現世界各國藝術家對這項展覽的重視及承辦單位國立臺灣美術館的努力成果。無論在東方或西方,當代版畫已由實用、技術本位出走,成爲藝術創作領域的重要一員。
本届雙年展回歸不設主題的徵件方式,以激發不同地域、不同族群的自由創作空間,擴大了版畫藝術的表現風貌與內涵。在得獎及入選作品展出期間,同時推出由國立臺灣美術館策劃、日本版畫協會協辦的「版.印─日本版畫主題展」,提供大眾了解日本版畫的發展歷程及歷屆中華民國國際版畫雙年展日本得獎藝術家版畫作品的今昔面貌。


