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浮現02-Ⅷ

武藤 正悟(Muto, Shogo)1966年出生於日本秋田縣,1990年畢業於東京大學。1991年開始在美國、日本、波蘭、匈牙利、泰國、葡萄牙、保加利亞與台灣等地參與國際聯合展覽。他曾於2005年在西班牙堡壘畫廊講習班(Taller Galeria Fort)與2006 年日本銀座O藝術空間(O Gallery)舉辦過個展。同時隸屬於日本版畫協會會員、國際印刷交流協會(印刷Zaurus)成員、日本美術家協會會員與印刷學會會員。 2002年的作品〈浮現02-Ⅷ〉,曾入選「中華民國第11屆國際版畫及素描雙年展」版畫類。作品以兩張合併版畫,結合金屬凹凸版的技法表現。畫面以鮮豔的洛黃底色襯托出精緻而富情感的線條,多層次的灰階與積聚而成的黑色面積,由內而外逐漸生長出的細線,群聚開放出燦爛似火花般的圖像。畫作充滿抽象的內向語彙,像是思緒的絲線蔓延,又彷彿是靈光瞬間。 出處:張瀞予,國立臺灣美術館典藏詮釋資料,2020。

基本資訊

  • 日期
    年代: 2002
  • 典藏機關
    典藏單位: 國立臺灣美術館
  • 地圖

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