伊娃．西玻珂（Eva Sebok），匈牙利藝術家，出生於1954年，同時代的藝術家有塔蒂亞娜·巴赫托瓦（Tatiana Bachtowa），米格爾·科斯塔爾斯（Miguel Costales）和尚塔爾·杜森沃特（Chantal Dussenwart）。〈另一個空間〉（Another Space）這件素描曾入選中華民國第10屆國際版畫及素描雙年展。作品整體畫面非常簡潔，並具有強弱、深淺與濃淡對比之下的一種詩意美感。畫中元素簡單，包含看似隨意分布的黑色圓點以及擦出來的淡灰色痕跡。事實上，所使用的素描方式也不複雜，厚塗與乾擦。然而，儘管如此，所呈現出來的視覺效果卻非常強烈。 整體而言，畫面上的圓點看似偶然隨意散置，但仔細觀察則會發現，儘管並非規律排放，但卻有一種秩序與節奏，感覺彼此之間疏密有致；另外，依循每顆圓點所擦出來的痕跡分為右方與上方，隨著圓點的秩序感，痕跡也自然形成了某種韻律。兩者之間，既互為結合，又互為映照，形成一幅既簡單，卻又富含韻味的作品。 出處：鄭勝華，國立臺灣美術館典藏詮釋資料，2020。